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勻膠機轉速穩定、啟動迅速，旋涂均勻，操作簡單，結構緊湊實用，為實驗室提供了理想的解決方案。廣泛應用于微電子、半導體、新能源、化工材料、生物材料、光學，硅片、載玻片，晶片，基片，ITO導電玻璃等工藝制版表面涂覆等。勻膠機的工作原理是高速旋轉基片，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上，甩膠機常用于各種溶膠凝膠實驗中的薄膜制作，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數而不同，也和旋轉速度及時間有關。勻膠機的操作說明：（1）選擇合適的專用吸附盤（略小于樣本尺寸），將缺口對準螺釘安裝，...

伺服勻膠機一個典型的勻膠過程包括滴膠，高速旋轉以及干燥(溶劑揮發)幾個步驟。滴膠這一步把光刻膠滴注到基片表面上，高速旋轉把光刻膠鋪展到基片上形成薄層，干燥這一步除去膠層中多余的溶劑。兩種常用的滴膠方式是靜態滴膠和動態滴膠。靜態滴膠就是簡單地把光刻膠滴注到靜止的基片表面的中心。滴膠的多少應根據光刻膠的粘度和基片的大小來確定。粘度比較高或基片比較大，往往需要滴較多的膠，以保證在高速旋轉階段整個基片上都涂到膠。伺服勻膠機動態滴膠方式是在基片低速旋轉的同時進行滴膠，“動態”的作用是讓...

臺式勻膠機主要由樣品臺、滴膠裝置和空心電動機組成，其工作原理是，通過在樣品臺上產生負壓將需要旋涂的基底材料吸附在樣品臺上，光刻膠液滴注在基底材料的表面，通過準確控制電動機的旋轉速度，以此來改變離心力的大小，同時通過控制膠液的流量來達到制備薄膜所需的厚度。臺式勻膠機常用的滴膠方式分為兩種，即靜態滴膠和動態滴膠。靜態滴膠是在基片靜止時將光刻膠滴注到基片的中心位置，滴膠量還應根據光刻膠的黏度和基片的大小來確定。當光刻膠黏度較高或基片尺寸較大時，需要更多的光刻膠才能保證在高速旋轉過程...

控溫電解雙噴儀使用注意事項：一、電源箱：電解減薄所用的電解液有很強的腐蝕性，所以在操作過程中，嚴禁電解液與計算機數據線接觸。在開機前必須檢查各部分連接是否正確。先確認電極插接良好，然后再啟動儀器電源開關，調整好泵速度，在試驗過程中根據實際情況改變泵速度。在試驗結束后，清潔電源箱。保持試驗室內通風良好。二、電解槽：控溫電解雙噴儀電解槽內部安裝有制冷片，所以要求電解槽在移動過程中輕拿輕放，嚴禁碰撞；噴完樣品后，將電解液倒入干凈的燒杯中，然后再倒入盛放電解液的容器中，電解液可以重復...

電解雙噴減薄儀是應用于透射電子顯微鏡金屬試樣制備的專用設備。減薄儀采用計算機控制，半導體制冷，樣品制備過程中全程自動化。由于采用了半導體制冷技術，開機后可以在短時間內將電解液的溫度降低。減薄儀具有多種功能設置，可以根據您的要求選擇不同的工作參數，完成不同的工作程序。減薄儀運用半導體制冷技術，能夠迅速降低電解液溫度，免除應用液氮或干冰制冷所產生的麻煩和危險，并保持溫度穩定，確保樣品制備工藝規范統一。穿孔檢測采用CCD作為感光部件，能實時監控，大大提高了穿孔報警的靈敏度，同時也能...

影響涂膜的主要因素有涂布速度以及施加在涂膜器上的壓力等，由于人工涂出的涂層經常出現不一致，尤其是不同人之間產生的差異較大，這就給比較樣板之間的測試結果帶來了困難。涂膜機通過控制速度以及穩定的壓力來保證涂布涂膠效果，保證涂布涂膠的均勻性以及平穩性。它可以讓使用者可以在紙張、塑料、金屬、PVC、PET、布料、鋁合金板等平面各種材料進行涂布實驗，能在不同底材上涂布出精確的濕膜，大大提高了涂膜的重現性。涂膜機的操作方式：將儀器置于穩固的工作臺上，調整儀器底腳使儀器安放平穩。將機箱后側...

勻膠機一個典型的勻膠過程包括滴膠，高速旋轉以及干燥(溶劑揮發)幾個步驟。勻膠機滴膠這一步把光刻膠滴注到基片表面上，高速旋轉把光刻膠鋪展到基片上形成薄層，干燥這一步除去膠層中多余的溶劑。兩種常用的滴膠方式是靜態滴膠和動態滴膠。靜態滴膠就是簡單地把光刻膠滴注到靜止的基片表面的中心，滴膠的多少應根據光刻膠的粘度和基片的大小來確定。粘度比較高或基片比較大，往往需要滴較多的膠，以保證在高速旋轉階段整個基片上都涂到膠。動態滴膠方式是在基片低速旋轉的同時進行滴膠，“動態”的作用是讓光刻膠容...